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8吋集成電路硅片襯底粗拋光液是由硅溶膠及特種功能性添加劑復(fù)配而成的CMP拋光液。該產(chǎn)品分散性好、粒度均勻、去除速率穩(wěn)定高效，具有良好的分散、潤滑、易清洗等特點(diǎn)，能有效去除硅片襯底表面損傷層達(dá)到鏡面效果，該產(chǎn)品適用于8吋集成電路硅片襯底CMP粗拋加工工藝中。

2拋光速率穩(wěn)定；

2拋光污染小，臟污殘留少；

2拋光后表面易清洗；

2鏡面效果好；

2環(huán)保。